硅单晶抛光片
Monocrystalline silicon polished wafers
标准状态
发布于：2018-09-17
实施于：2019-06-01
废止
基本信息
GB/T 12964-2018
现行
2018-09-17
2019-06-01
国家标准委
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
国家标准委
GB/T 12964-2003
有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、浙江省硅材料质量检验中心、天津市环欧半导体材料技术有限公司、上海合晶硅材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司、有色金属技术经济研究院
孙燕、卢立延、楼春兰、杨素心、徐新华、张海英、潘金平、张雪囡
标准简介
本标准规定了硅单晶抛光片（简称硅抛光片）的牌号及分类、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。 本标准适用于直拉法、悬浮区熔法（包括中子嬗变掺杂和气相掺杂）制备的直径不大于200mm的硅单晶抛光片。产品主要用于制作集成电路、分立元件、功率器件等，或作为硅外延片的衬底。
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