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高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法

Measurement method for topographic parameters of high-aspect-ratio microstructures utilize microscopic interferometry

GB/T 48095-2026即将实施国家标准

标准状态

发布于:2026-08-28
实施于:2027-03-01
废止

基本信息

GB/T 48095-2026
即将实施
2026-08-28
2027-03-01
L50 光电子器件综合
中国科学院
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
中国科学院
中国科学院
南京理工大学、上海市计量测试技术研究院有限公司、中国电子科技集团公司第十三研究所、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司、中国科学院微电子研究所、中国计量科学研究院、中国科学院空天信息创新研究院、齐之明光电智能科技(苏州)有限公司、南京智群光电技术有限公司、苏州热工研究院有限公司、浙江大学苏州工业技术研究院、无锡华润上华科技有限公司
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标准简介

本文件描述了高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法的测量原理、测量装置、测量环境、样品、测量步骤、数据处理以及测量报告。 本文件适用于对可见光或近红外光透明的微纳器件中深宽比不大于50的高深宽比微结构形貌参数的检测与测量。

内容预览

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