硅片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法
Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
标准状态
发布于：2020-10-11
实施于：2021-09-01
废止
基本信息
GB/T 39145-2020
现行
2020-10-11
2021-09-01
国家标准委
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
国家标准委
南京国盛电子有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、有色金属技术经济研究院、龙腾半导体有限公司、有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料有限公司、无锡华瑛微电子技术有限公司、厦门科鑫电子有限公司
骆红、潘文宾、张海英、徐新华、李素青、马林宝、赵而敬、孙燕、温子瑛、胡金枝、李俊需
标准简介
本标准规定了电感耦合等离子体质谱法测定硅片表面金属元素含量的方法。 本标准适用于硅单晶抛光片和硅外延片表面痕量金属钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌元 素含量的测定，测定范围为108cm-2~1013cm-2。本标准同时也适用于硅退火片、硅扩散片等无图形硅片表面痕量金属元素含量的测定。 注:硅片表面的金属元素含量以每平方厘米的原子数计。
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