平面磁控溅射靶材光学薄膜用硅靶
标准状态
发布于：2009-12-04
实施于：2010-06-01
废止
基本信息
YS/T 719-2009
现行
2009-12-04
2010-06-01
工业和信息化部
全国有色金属标准化技术委员会
利达光电股份有限公司
李智超、杨太礼 等
标准简介
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
内容预览
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。