短基线红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量

SJ/T 11491-2015现行行业标准

标准状态

发布于：2015-04-30

实施于：2015-10-01

废止

标准号SJ/T 11491-2015

标准状态现行

发布日期2015-04-30

实施日期2015-10-01

中国标准分类号H82 元素半导体材料

国际标准分类号29.045 半导体材料

发布部门工业和信息化部

技术归口全国半导体设备和材料标准化技术委员会

起草单位信息产业专用材料质量监督检验中心、工业和信息化部电子工业标准化研究院、苏州晶瑞化学有限公司等

起草人李静、何秀坤、刘兵等

本标准规定了用短基线红外光谱法测定硅中间隙氧含量。本标准适用于在室温下用短基线红外吸收法，测量低阻率的n型硅单晶和p型硅单晶中间隙氧含量。测量氧含量的有效范围从1×10∧16at.com3至硅单晶中间隙氧的最大固溶度的测试。