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硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法

SJ/T 11493-2015已废止行业标准

标准状态

发布于:2015-04-30
实施于:2015-10-01
已废止

基本信息

SJ/T 11493-2015
已废止
2015-04-30
2015-10-01
H82 元素半导体材料
29.045 半导体材料
工业和信息化部
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
信息产业专用材料质量监督检验中心、工业和信息化部电子工业标准化研究院、苏州晶瑞化学有限公司等
马农农、何友琴、何秀坤 等

标准简介

本标准规定了用二次离子质谱法(SIMS)对硅衬底单晶体材料中氮总浓度的测试方法。 本标准适用于锑、砷、磷的掺杂浓度<0.2%(1×10∧2at·cm-3)的单晶样品,其中氮的浓度大于等于1 ×10∧14 at·cm-3

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