硅基MEMS制造技术以深刻蚀与键合为核心的工艺集成规范

Silicon-based MEMS fabrication technology—Specification for criterion of the combination of the deep etching and bonding process

GB/T 32816-2016现行国家标准

标准状态

发布于：2016-08-29

实施于：2017-03-01

废止

标准号GB/T 32816-2016

标准状态现行

发布日期2016-08-29

实施日期2017-03-01

中国标准分类号L55 微电路综合

国际标准分类号31.200 集成电路、微电子学

主管部门国家标准委

发布部门中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

技术归口国家标准委

起草单位北京大学、大连理工大学、中机生产力促进中心、北京青鸟元芯微系统科技有限公司

起草人张大成、杨芳、何军、黄贤、邹赫麟、田大宇、李海斌、王玮、刘冲、刘伟、姜博岩

本标准规定了采用以深刻蚀与键合为核心的工艺集成进行MEMS器件加工时应遵循的工艺要求和质量检验要求。本标准适用于基于以深刻蚀与键合为核心的工艺集成的加工和质量检验。