高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求

Generic specification for high precision magnetron sputtering coating plant

T/GVS 002-2021现行团体标准

标准状态

发布于：2021-06-28

实施于：2021-06-28

废止

标准号T/GVS 002-2021

标准状态现行

发布日期2021-06-28

实施日期2021-06-28

中国标准分类号J78 真空技术与设备

国际标准分类号23.160 真空技术

发布部门广东省真空学会

团体名称广东省真空学会

起草单位中山凯旋真空科技股份有限公司、广东省中山市质量技术监督标准与编码所、华南理工大学、中山市博顿光电科技有限公司、中山火炬职业技术学院

起草人李晓刚、聂鹏、叶俊文、吴标平、黎子辉、吴洽、冀鸣、石澎、黄志云、胡双丽、章艺锋、邓志雄

本文件规定了高精度磁控溅射镀膜设备的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于极限压力在10-5Pa～10-3Pa范围的高精度磁控溅射镀膜设备（以下简称“设备”）。