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制备氮化物半导体材料用氢化物气相外延设备

Equipment for preparation of nitride semiconductor materials by hydride vapor phase epitaxy

GB/T 36646-2018现行国家标准

标准状态

发布于:2018-09-17
实施于:2019-01-01
废止

基本信息

GB/T 36646-2018
现行
2018-09-17
2019-01-01
国家标准委
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
国家标准委
东莞市中镓半导体科技有限公司、中国电子技术标准化研究院
刘鹏、孙永健、王健辉、丁晓民、冯亚彬

标准简介

本标准规定了制备氮化物半导体材料用氢化物气相外延设备(以下简称“HVPE设备”)的产品分类和标记、工作条件、要求、检测方法、检验规则、标志、包装、运输和储存。 本标准适用于制备直径50.8mm~152.4mm氮化物半导体材料的HVPE设备。

内容预览

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