表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
Surface chemical analysis―Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
标准状态
发布于：2014-03-27
实施于：2014-12-01
废止
基本信息
GB/T 30701-2014
现行
2014-03-27
2014-12-01
中国科学院
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
中国科学院
中国计量科学研究院
王海、宋小平、冯流星、王梅玲、高思田
标准简介
本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法（气相分解法或直接酸性液滴分解法）和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定。 ‖ 注：可采用石墨炉原子吸收光谱法或电感耦合等离子体质谱法代替全反射X射线荧光光谱法来测定所收集的元素。 本标准适用于原子表面密度介于6×109 atoms/cm2～5×1011 atoms/cm2范围的铁和/或镍。
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