碳化硅单晶生长用等静压石墨构件纯度测定方法 辉光放电质谱法
Test method for purity of iso-static graphite components used in the growth of silicon carbide single crystals-Glow discharge mass spectrometry
标准状态
发布于:2025-04-23
实施于:2025-04-23
废止
基本信息
T/CASAS 036-2025
现行
2025-04-23
2025-04-23
北京第三代半导体产业技术创新战略联盟
北京第三代半导体产业技术创新战略联盟
赛迈科先进材料股份有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、湖南三安半导体有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司、山西烁科晶体有限公司、山东大学、中国科学院半导体研究所、中电化合物半导体有限公司、杭州海乾半导体有限公司、北京第三代半导体产业技术创新战略联盟。
屈睿航、周明、董博宇、吴厚政、杨牧龙、彭珍珍、徐建平、田涛、李殿浦、袁振洲、宁秀秀、侯晓蕊、杨弥珺、武雷、徐明升、张逊熙、张静、孔令沂、曾一平、李娟。
标准简介
等静压石墨是由碳骨料、沥青等原材料通过磨粉、混捏、等静压成型、焙烧、浸渍、石墨化、纯化等工艺制造而成的石墨,也称为“各向同性”石墨。等静压石墨在碳化硅单晶生长过程中应用广泛,主要用于制造碳化硅单晶生长用的热场构件,如加热器、坩埚、籽晶托等。这些构件对于单晶生长过程的稳定性和晶体质量具有重要影响,质量良好的等静压石墨热场能够有效提升晶体生长良率。碳化硅单晶生长需要在高温、高度洁净的环境中进行,任何杂质都可能对晶体生长产生不利的影响,甚至直接导致晶体质量下降或生长失败,因此等静压石墨构件的纯度是非常关键的性能