电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
标准状态
发布于：2013-10-17
实施于：2014-03-01
废止
基本信息
YS/T 935-2013
现行
2013-10-17
2014-03-01
工业和信息化部
全国有色金属标准化技术委员会
有研亿金新材料股份有限公司
张涛、何金江 等
标准简介
本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法、杂质含量分析方法、抽样规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。 本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材(以下简称靶材)。其他对纯度有较高要求的靶材纯度等级、杂质含量分析及报告规范也可参照使用。
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