电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
标准状态
发布于：2013-09-06
实施于：2014-05-01
废止
基本信息
GB/T 29658-2013
现行
2013-09-06
2014-05-01
中国有色金属工业协会
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
中国有色金属工业协会
有研亿金新材料股份有限公司、新疆众和股份有限公司、宁波江丰电子材料有限公司
万小勇、罗俊锋、杨华、朱晓光、廖赞、尚再艳、孙秀霖
标准简介
本标准规定了电子薄膜制备用高纯铝及铝合金靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、存贮、订货单(或合同)等内容。 本标准适用于电子薄膜用各类高纯铝及铝合金溅射靶材(以下简称铝靶)。
内容预览
