掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则
Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
标准状态
发布于：1997-06-20
实施于：1998-03-01
废止
基本信息
标准简介
本准则规定了在表示掩模曝光设备的精密度和准确度时应遵循的一般要求。掩模曝光设备的图形曝光精密度和准确度是通过测量制成的掩模来评估的，掩模制造过程中的工艺条件对它有很大影响。所以，曝光条件应经厂家和用户双方同意。
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