物理气相沉积TIN薄膜技术条件

Specifications of physical vapour deposition TiN films

GB/T 18682-2002现行国家标准

标准状态

发布于：2002-03-10

实施于：2002-08-01

废止

标准号GB/T 18682-2002

标准状态现行

发布日期2002-03-10

实施日期2002-08-01

中国标准分类号A29 材料防护

国际标准分类号25.220.20 表面处理

主管部门中国机械工业联合会

发布部门中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局

技术归口中国机械工业联合会

起草单位武汉材料保护研究所

本标准规定了物理气相沉积TiN薄膜的技术要求。本标准适用于物理气相沉积TiN薄膜，也适用于其他方法制备的TiN薄膜。本标准也适用于其他材料沉积层(TiC，TiCN，TiAIN等)。