工业硅化学分析方法 第4部分：电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量（内容不全）
Methods for chemical analysis of silicon metal - Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
标准状态
发布于：2008-06-09
实施于：2008-12-01
已废止
基本信息
GB/T 14849.4-2008
已废止
2008-06-09
2008-12-01
中国有色金属工业协会
全国有色金属标准化技术委员会
中国铝业股份有限公司郑州研究院、中国有色金属工业标准计量质量研究所等
李跃平、石磊、张树朝
标准简介
本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定。
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