电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
标准状态
发布于：2018-12-28
实施于：2019-04-01
废止
基本信息
GB/T 37049-2018
现行
2018-12-28
2019-04-01
国家标准委
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
国家标准委
江苏中能硅业科技发展有限公司、有研半导体材料有限公司、新特能源股份有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、宜昌南玻硅材料有限公司、洛阳中硅高科技有限公司
鲁文锋、刘晓霞、赵而敬、王桃霞、柳德发、张园园、刘强、秦榕、孙燕、赵玉、王忠慧、银波、邱艳梅
标准简介
本标准规定了电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定电子级多晶硅中痕量基体金属杂质含量的方法。 本标准适用于GB/T 12963中在基体金属杂质小于5ng/g范围内铁、铬、镍、铜、锌、钠含量的测定。
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