表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法
Surface chemical analysis—Depth profiling—Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS
标准状态
发布于：2017-09-29
实施于：2018-08-01
已废止
基本信息
GB/T 34326-2017
已废止
2017-09-29
2018-08-01
中国科学院
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
中国科学院
中国计量科学院
王海、王梅玲、张艾蕊、宋小平
标准简介
本标准规定了在俄歇电子能谱（AES）和X射线光电子能谱（XPS）中使用惰性气体离子以保证溅射深度剖析具有好的深度分辨率以及最佳表面清洁效果而采取的离子束对准方法。这些方法分为两类：一类通过法拉第杯测量离子束流，另一类通过成像方法。法拉第杯方法也规定了离子束束流密度和束流分布的测量。这些方法不包括深度分辨率的优化。 这些方法均适用于束斑直径小于1mm的离子枪。
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