表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
标准状态
发布于：2006-03-27
实施于：2006-11-01
已废止
基本信息
GB/T 20176-2006
已废止
2006-03-27
2006-11-01
中国科学院
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
中国科学院
清华大学电子工程系
查良镇、陈旭、黄天斌、刘林、黄雁华、王光普
标准简介
本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10的16次方atoms/cm3～1×10的20次方atoms/cm3。
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