工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4：Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
标准状态
发布于：2014-12-05
实施于：2015-08-01
废止
基本信息
GB/T 14849.4-2014
现行
2014-12-05
2015-08-01
中国有色金属工业协会
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
中国有色金属工业协会
GB/T 14849.4-2008
昆明冶金研究院、昆明冶研新材料股份有限公司、中国铝业股份有限公司郑州研究院、云南出入境检验检疫局技术中心等
刘维理、王劲榕、杨毅、李跃平、赵德平
标准简介
GB／T14849的本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、锰、、镍、铜、铬、钒、镁、、磷、钾、钠、铅、锌、硼含量的测定方法。 本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、锰、、镍、铜、铬、钒、镁、钻、磷、钾、钠、铅、锌、硼量的测定。
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