微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法
Micro-electromechanical system technology—Measuring method for in-plane length measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
标准状态
发布于：2017-11-01
实施于：2018-05-01
废止
基本信息
GB/T 34893-2017
现行
2017-11-01
2018-05-01
国家标准委
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
国家标准委
天津大学、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第十三研究所、中机生产力促进中心、南京理工大学
胡晓东、郭彤、程红兵、裘安萍、于振毅、李海斌、崔波、朱悦
标准简介
本标准规定了基于光学干涉显微镜获取MEMS微结构表面形貌进行面内长度测量的方法。 本标准适用于表面反射率不低于4%，宽深比不低于1:10，且使用光学干涉显微镜能够获取形貌的MEMS微结构。
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