多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱
Multilayer metal film-Measurement and analysis method of layer structure-X-ray photoelectron spectroscopy
标准状态
发布于：2024-01-20
实施于：2024-01-20
废止
基本信息
T/CSTM 01199-2024
现行
2024-01-20
2024-01-20
中关村材料试验技术联盟
中关村材料试验技术联盟
季华实验室、中国科学院上海硅酸盐研究所、广东工业大学、中国计量科学研究院、宁波新材料测试评价中心有限公司、中材新材料研究院（广州）有限公司。
范燕、卓尚军、严楷、王双、李林清、王海、杨秋，江柯敏、刘海全、谭晓逸、谭军、白敬胜。
标准简介
本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。 本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征。
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