氮化镓单晶衬底表面粗糙度的原子力显微镜检验法

Test method for surface roughness of GaN single crystal substrate by atomic force microscope

GB/T 32189-2015现行国家标准

标准状态

发布于：2015-12-10

实施于：2016-11-01

废止

标准号GB/T 32189-2015

标准状态现行

发布日期2015-12-10

实施日期2016-11-01

中国标准分类号H21 金属物理性能试验方法

国际标准分类号77.040 金属材料试验

主管部门国家标准委

发布部门中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

技术归口国家标准委

起草单位中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州纳维科技有限公司

起草人刘争晖、钟海舰、邱永鑫、曾雄辉、徐耿钊、樊英民、王建峰、徐科

本标准规定了用原子力显微镜测试氮化镓单晶衬底表面粗糙度的方法。本标准适用于化学气相沉积及其他方法生长制备的表面粗糙度小于10nm 的氮化镓单晶衬底。其他具有相似表面结构的半导体单晶衬底应用本标准提供的方法进行测试前,需经测试双方协商达成一致。