电子薄膜用高纯铜溅射靶材
标准状态
发布于：2012-11-07
实施于：2013-03-01
废止
基本信息
YS/T 819-2012
现行
2012-11-07
2013-03-01
71.150.30
工业和信息化部
全国有色金属标准化中心
宁波江丰电子材料有限公司、有研亿金新材料股份有限公司
王学泽、宋佳 等
标准简介
本标准规定了电子薄膜用高纯铜溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及合同（或订货单）内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯铜溅射靶材。
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