表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序
Surface chemical analysis—Proposed procedure for certifying the retained areic dose in a working reference material produced by ion implantation
标准状态
发布于：2017-09-07
实施于：2018-08-01
废止
基本信息
GB/T 34174-2017
现行
2017-09-07
2018-08-01
中国科学院
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
中国科学院
中国科学院化学研究所、国家纳米科学中心、中国石化石油化工科学研究院
邱丽美、刘芬、赵志娟、章小余、徐鹏、刁玉霞
标准简介
对表面分析用的工作参考物质(WoRM)中离子注入原子序数大于硅的分析物元素，本标准规定了对其驻留面剂量进行定值的程序。WoRM为组成均匀的、标称直径不小于50mm的抛光(或类似磨面)基片(也称作基片)，并已离子注入一种基片上不存在的某种化学元素的同位素(也称作分析物)，其标称面剂量范围通常为1016atoms/cm2至1013atoms/cm2(即半导体技术中最感兴趣的范围)。WoRM晶片中离子注入分析物的面剂量，是通过与二级参考物质（SeRM）硅片中注入相同分析物的驻留面剂量比较而进行定值的。本标准提供
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