用于集成电路制造技术的检测图形单元规范
Specification for metrology pattern cells for integrated circuit manufacture
标准状态
发布于：1997-06-20
实施于：1998-03-01
废止
基本信息
标准简介
本规范规定若干种标准测试图形，用以对集成电路生产中所用的微图形设备、计量仪器和工艺进行一致的全面评估和检测。 本规范针对线宽计量、分辨率测试和邻近效应测试的需要，规定若干种基本测试图形单元的形状、一般尺寸、以及推荐的布局和设计规则。这些标准图形包括可供光学显微镜、电子显微镜和电子探针测量用的各种图形单元。 本规范不规定验证母版上测试图形关键尺寸的测量技术，也不规定如何测量大圆片上的光刻图形，只规定若干种必要的基本测试图形，以及用户实施符合本规范的实际测试图形。
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