刻蚀机用硅电极及硅环

Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine

GB/T 41652-2022现行国家标准

标准状态

发布于：2022-07-11

实施于：2023-02-01

废止

标准号GB/T 41652-2022

标准状态现行

发布日期2022-07-11

实施日期2023-02-01

中国标准分类号H82 元素半导体材料

国际标准分类号29.045 半导体材料

主管部门国家标准委

发布部门国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会

技术归口国家标准委

提出单位全国半导体设备和材料标准化技术委员会

起草单位有研半导体硅材料股份公司、新美光（苏州）半导体科技有限公司、山东有研半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司

起草人库黎明、孙燕、夏秋良、潘金平、闫志瑞、张果虎

本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。本文件适用于p拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200mm~450mm的硅电极及硅环。