半导体显示用高碱浓度负胶显影液

High alkali concentration negative photoresist developer for semiconductor display

T/CEMIA 036-2023现行团体标准

标准状态

发布于：2023-11-06

实施于：2023-11-30

废止

标准号T/CEMIA 036-2023

标准状态现行

发布日期2023-11-06

实施日期2023-11-30

中国标准分类号L90 电子技术专用材料

国际标准分类号31.030 电子技术专用材料

发布部门中国电子材料行业协会

团体名称中国电子材料行业协会

起草单位福建省佑达环保材料有限公司、福州大学、福建华佳彩有限公司。

起草人刘小勇、侯琳熙、姚慧君、田博、肖龙强、黄晓莉、黄子勗、房龙翔、陈泽生、肖小江、邱小真、叶鑫煌、李丛香、吴玲玲。

本文件适用于由氢氧化钾、表面活性剂和水组成，其中氢氧化钾的质量百分比大于8%的半导体显示用高碱浓度负胶显影液。此半导体显示用高碱浓度负胶显影液主要用于半导体制程中负性光刻胶的显影，及薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）或有机发光二极管显示器（OLED）彩膜工艺光刻胶的显影。