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酸浸取-电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质

Test method for measuring surface metal contamination of polycrystalline silicon by acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry

GB/T 24582-2009已废止国家标准

标准状态

发布于:2009-10-30
实施于:2010-06-01
已废止

基本信息

GB/T 24582-2009
已废止
2009-10-30
2010-06-01
29.045 半导体材料
国家标准委
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
国家标准委
新光硅业科技责任有限公司
王波、过惠芬、敖细平、吴道荣、梁洪

标准简介

本标准规定了用酸从多晶硅块表面浸取金属杂质,并用电感耦合等离子质谱仪定量检测多晶硅表面上的金属杂质痕量分析方法。 本标准适用于碱金属、碱土金属和第一系列过渡元素如钠、钾、钙、铁、镍、铜、锌以及其他元素如铝的检测。 本标准适用于各种棒、块、粒、片状多晶表面金属污染物的检测。由于块、片或粒形状不规则,面积很难准确测定,故根据样品重量计算结果,使用的样品重量为50 g~300 g,检测限为0.01 ng/mL。 酸的浓度、组成、温度和浸取时间决定着表面腐蚀深度和表面污染物的浸取效益。在这个实验方法中腐蚀掉的样品

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