碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法
Test method for surface quality and micropipe density of polished silicon carbide wafers—Confocal and differential interferometry optics
标准状态
发布于：2023-11-27
实施于：2024-06-01
废止
基本信息
GB/T 43313-2023
现行
2023-11-27
2024-06-01
国家标准委
国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
国家标准委
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
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标准简介
本文件规定了4H碳化硅抛光片表面质it和微管密度的共焦点微分干涉测试方法。 本文件适用于直径为50.8mm、76.2mm、100mm、150mm、200mm，厚度范围为300μm~1000μm碳化硅抛光片的表面质量和微管密度的测试。
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