半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
标准状态
发布于:2012-12-28
实施于:2013-06-01
废止
基本信息
JC/T 2133-2012
现行
2012-12-28
2013-06-01
工业和信息化部
全国工业陶瓷标准化技术委员会
中国科学院上海硅酸盐研究所
陈奕睿、屈海云 等
标准简介
本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。