磁控溅射用钌靶
Magnetron sputtering ruthenium target
标准状态
发布于：2017-09-29
实施于：2018-04-01
废止
基本信息
GB/T 34649-2017
现行
2017-09-29
2018-04-01
中国有色金属工业协会
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
中国有色金属工业协会
有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院
罗俊锋、丁照崇、万小勇、刘书芹、贺昕、滕海涛、李勇军、向磊、熊晓东、王庄、高岩
标准简介
本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。 本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶（以下简称钌靶）。
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