用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
标准状态
发布于：2013-11-12
实施于：2014-04-15
废止
基本信息
GB/T 29844-2013
现行
2013-11-12
2014-04-15
国家标准委
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
国家标准委
上海华虹NEC电子有限公司
王雷、伍强、朱骏、陈宝钦
标准简介
本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸,以及推荐的布局和设计规则,这些标准测试图形包括可供光学显微镜和扫描电子显微镜用的各种图形单元。 本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量,适用于g线、i线、KrF、ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。
内容预览
