碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
Determination of boron, aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
标准状态
发布于：2021-12-31
实施于：2022-07-01
废止
基本信息
GB/T 41153-2021
现行
2021-12-31
2022-07-01
国家标准委
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
国家标准委
中国电子科技集团公司第四十六研究所、山东天岳先进科技股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司
马农农、何友琴、何烜坤、李素青、陈潇、刘立娜、张红岩
标准简介
本文件规定了碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的二次离子质谱测试方法。 本文件适用于碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的定量分析，测定范围为硼含量不小于5X1013cm-3、铝含量不小于5X1013cm-3氮含量不小于5X1015cm-3，元素浓度（原子个数百分比）不大于1%。 注1：碳化硅单晶中待测元素的含量以每立方厘米中的原子数计。 注2:碳化硅单晶中钒杂质含量的测定可参照本文件进行，测定范围为钒含量不小于1x1013cm-3c。
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