硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法
Trichlorosilane for silicon epitaxy - Determination of boron，aluminium，phosphorus，vanadium，chrome，manganese，iron，cobalt，nickel，copper，molybdenum，arsenic and antimony content - Inductively coupled plasma mass spectrometric method
标准状态
发布于：2012-12-31
实施于：2013-10-01
已废止
基本信息
GB/T 29056-2012
已废止
2012-12-31
2013-10-01
国家标准委
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
国家标准委
南京中锗科技股份有限公司、南京大学国家863计划新材料MO源研究开发中心、南京大学现代分析中心
郑华荣、刘新军、黄和明、陈逸君、龚磊荣、张莉萍
标准简介
本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定硅外延用三氯氢硅(SiHCl3)中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等痕量元素含量的方法。本标准适用于硅外延用三氯氢硅(SiHC13)中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等含量的测定。
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