多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法
Test method for measuring surface metal impurity content of polycrystalline silicon—Acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry method
标准状态
发布于：2023-08-06
实施于：2024-03-01
废止
基本信息
GB/T 24582-2023
现行
2023-08-06
2024-03-01
国家标准委
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
国家标准委
GB/T 24582-2009
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
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标准简介
本文件描述了用酸从多晶硅表面浸取金属杂质，并用电感耦合等离子质谱仪定量检测多晶硅表面金属杂质含量的方法。 本文件适用于太阳能级多晶硅和电子级多晶硅表面碱金属、碱土金属和第一系列过渡元素如钠、钾、钙、铁、镍、铜、锌、铝等杂质元素含量的测定，测定范围为0.01ng/g。
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