硅抛光片表面颗粒测试方法
Test method of particles on silicon wafer surfaces
标准状态
发布于：2005-09-19
实施于：2006-04-01
已废止
基本信息
GB/T 19921-2005
已废止
2005-09-19
2006-04-01
中国有色金属工业协会
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
中国有色金属工业协会
北京有色金属研究总院
标准简介
本标准规定了应用扫描表面检查系统(SSIS)对硅抛光片表面颗粒进行测试、计数和报告的程序。 本标准适用于硅抛光片，也可适用于硅外延片或其他镜面抛光片（如化合物抛光片）。 本标准也可适用于观测硅抛光片表面的划痕、橘皮、凹坑、波纹等缺陷，但这些缺陷的检测、分类依赖于设备的功能，并与检测时的初始设置有关。 注：本标准涉及的方法通常选用波长(48~6 33)nm的激光光源，最常用的是488nm的氩离子激光器；目前可测量的最小值颗粒直径为0.06μm或更小些。
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