微纳米金属烧结体电阻率测试方法 四探针法
Test method for resistivity of micro and nano metal sintered compact: four probe method
标准状态
发布于：2021-11-01
实施于：2021-12-01
废止
基本信息
T/CASAS 019-2021
现行
2021-11-01
2021-12-01
北京第三代半导体产业技术创新战略联盟
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张国旗、叶怀宇、刘旭、张靖、张敬国、赵朝晖、梁明会、刘洋、王可、唐宏浩、周斌、樊嘉杰、刘盼、张凯、王来利、田天成、赵璐冰、高伟
标准简介
本文件规定了第三代半导体器件封装用微纳米金属烧结体的电阻率测试方法。 本文件适用于第三代半导体器件封装用微纳米金属烧结体的电阻率测试评价；此烧结体不包含烧结件的被连接件(如芯片)、连接基体。 本方法适用于直径大于探针间距10倍、厚度小于探针间距4倍的微纳米金属烧结体圆形样品体积电阻率的测试，不适用于薄膜样品方块电阻的测试。
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