MEMS高深宽比结构深度测量方法光谱反射法

T/ZOIA 30001-2022现行团体标准

标准状态

发布于：2022-12-29

实施于：2022-12-29

废止

标准号T/ZOIA 30001-2022

标准状态现行

发布日期2022-12-29

实施日期2022-12-29

中国标准分类号L50 光电子器件综合

国际标准分类号31.260 光电子学、激光设备

发布部门中关村光电产业协会

团体名称中关村光电产业协会

起草单位中国科学院微电子研究所、中关村光电产业协会、天津大学、北京绿色制造产业联盟、凌云光技术股份有限公司、北京大学、中国计量科学研究院、北京总部企业协会

起草人陈晓梅、霍树春、卢永红、胡春光、杨艺、曲扬、杨芳、施玉书、马晓雪、谷焱绯

本标准规定了MEMS高深宽比结构深度光谱反射测量的测量原理、测量设备、测量要求、测量方法、测量结果的不确定度评定、合成相对不确定度评定、扩展相对不确定度评定以及测试报告等内容。本标准适用于多种半导体材料上MEMS高深宽比刻蚀结构的深度测量。刻蚀结构包括但不限于单体和阵列的沟槽、柱和孔等。