H17 半金属及半导体材料分析方法
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| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 14140-2025 | 半导体晶片直径测试方法 | 现行 | 2025-08-01 | 2026-02-01 |
| GB/T 11073-2025 | 硅片径向电阻率变化测量方法 | 现行 | 2025-10-31 | 2026-05-01 |
| GB/T 4326-2025 | 非本征半导体单晶霍尔迁移率和霍尔系数测量方法 | 现行 | 2025-10-31 | 2026-05-01 |
| GB/T 29056-2025 | 硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2025-10-31 | 2026-05-01 |
| GB/T 47089-2026 | 蓝宝石图形化衬底表面图形几何参数的测定方法 | 现行 | 2026-01-28 | 2026-08-01 |
| GB/T 47081-2026 | 氮化硅粉体中铁、铝、钙含量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法 | 现行 | 2026-01-28 | 2026-08-01 |
| GB/T 47080-2026 | 金刚石单晶抛光片位错密度的测试方法 | 现行 | 2026-01-28 | 2026-08-01 |
| GB/T 47082-2026 | 碳化硅单晶抛光片堆垛层错测试方法 | 现行 | 2026-01-28 | 2026-08-01 |
| YS/T 1863.1-2026 | 硅多晶用硅粉理化性能的测定 第1部分：有效硅含量的测定 重量法 | 现行 | 2026-04-15 | 2026-11-01 |
| YS/T 1864-2026 | 流化床法颗粒硅表面金属含量的测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2026-04-15 | 2026-11-01 |
| YS/T 1863.2-2026 | 硅多晶用硅粉理化性能的测定 第2部分： 浊度的测定 散射光法 | 现行 | 2026-04-15 | 2026-11-01 |