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151
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现行
即将实施
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标准号
标准名称
状态
发布日期
↕
实施日期
↕
YS/T 1863.1-2026
硅多晶用硅粉理化性能的测定 第1部分:有效硅含量的测定 重量法
现行
2026-04-15
2026-11-01
YS/T 1864-2026
流化床法颗粒硅表面金属含量的测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法
现行
2026-04-15
2026-11-01
YS/T 1863.2-2026
硅多晶用硅粉理化性能的测定 第2部分: 浊度的测定 散射光法
现行
2026-04-15
2026-11-01
GB/T 47089-2026
蓝宝石图形化衬底表面图形几何参数的测定方法
现行
2026-01-28
2026-08-01
GB/T 47081-2026
氮化硅粉体中铁、铝、钙含量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法
现行
2026-01-28
2026-08-01
GB/T 47080-2026
金刚石单晶抛光片位错密度的测试方法
现行
2026-01-28
2026-08-01
GB/T 47082-2026
碳化硅单晶抛光片堆垛层错测试方法
现行
2026-01-28
2026-08-01
GB/T 11073-2025
硅片径向电阻率变化测量方法
现行
2025-10-31
2026-05-01
GB/T 4326-2025
非本征半导体单晶霍尔迁移率和霍尔系数测量方法
现行
2025-10-31
2026-05-01
GB/T 29056-2025
硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
现行
2025-10-31
2026-05-01
GB/T 14140-2025
半导体晶片直径测试方法
现行
2025-08-01
2026-02-01
YS/T 1755-2025
颗粒硅总金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
现行
2025-04-10
2025-11-01
YS/T 1740-2025
电子级三氯氢硅的化学气相沉积评价方法
现行
2025-04-10
2025-11-01
YS/T 1747-2025
硅材料中氢含量的测定 惰性气体熔融热导法
现行
2025-04-10
2025-11-01
YS/T 1754-2025
颗粒硅表面粉尘的测定 浊度法
现行
2025-04-10
2025-11-01
YS/T 1768-2025
硅多晶生产用石墨制品表面杂质含量的测定 电感耦合等离子体光谱法
现行
2025-04-10
2025-11-01
YS/T 526-2025
镍硼硅系自熔合金粉
现行
2025-04-10
2025-11-01
YS/T 1703-2024
晶片包装片盒表面颗粒的测试 液体颗粒计数法
现行
2024-10-24
2025-05-01
YS/T 981.1-2024
高纯铟化学分析方法 第1部分:痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法
现行
2024-10-24
2025-05-01
YS/T 983-2024
硅多晶还原炉尾气成分的测定 气相色谱法
现行
2024-10-24
2025-05-01
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