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H17 半金属及半导体材料分析方法

收录 151 项
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标准号标准名称状态发布日期 实施日期
GB/T 37211.3-2022金属锗化学分析方法 第3部分：痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法现行2022-12-302023-04-01
GB/T 42263-2022硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法现行2022-12-302023-04-01
GB/T 42274-2022氮化铝材料中痕量元素（镁、镓）含量及分布的测定 二次离子质谱法现行2022-12-302023-04-01
GB/T 42276-2022氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的测定 离子色谱法现行2022-12-302023-04-01
YS/T 1601-2023六氯乙硅烷中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法现行2023-04-212023-11-01
YS/T 38.3-2023高纯镓化学分析方法 第3部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法现行2023-04-212023-11-01
YS/T 1600-2023碳化硅单晶中痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法现行2023-04-212023-11-01
GB/T 24582-2023多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法现行2023-08-062024-03-01
GB/T 35306-2023硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法现行2023-08-062024-03-01
YS/T 1654-2023氮化镓化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法现行2023-12-202024-07-01
GB/T 1558-2023硅中代位碳含量的红外吸收测试方法现行2023-12-282024-07-01
YS/T 1703-2024晶片包装片盒表面颗粒的测试 液体颗粒计数法现行2024-10-242025-05-01
YS/T 981.1-2024高纯铟化学分析方法 第1部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法现行2024-10-242025-05-01
YS/T 983-2024硅多晶还原炉尾气成分的测定 气相色谱法现行2024-10-242025-05-01
YS/T 1755-2025颗粒硅总金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法现行2025-04-102025-11-01
YS/T 1740-2025电子级三氯氢硅的化学气相沉积评价方法现行2025-04-102025-11-01
YS/T 1747-2025硅材料中氢含量的测定 惰性气体熔融热导法现行2025-04-102025-11-01
YS/T 1754-2025颗粒硅表面粉尘的测定 浊度法现行2025-04-102025-11-01
YS/T 1768-2025硅多晶生产用石墨制品表面杂质含量的测定 电感耦合等离子体光谱法现行2025-04-102025-11-01
YS/T 526-2025镍硼硅系自熔合金粉现行2025-04-102025-11-01

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