29.045 半导体材料
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| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| CB/Z 166-1979 | 压电陶瓷材科体积电阻率ρV测量方法 | 现行 | 1979-10-15 | 1979-10-15 |
| YS/T 15-1991 | 硅外延层和扩散层厚度测定磨角染色法 | 已废止 | 1991-04-26 | 1992-06-01 |
| YS/T 23-1992 | 硅外延层厚度测定堆垛层错尺寸法 | 已废止 | 1992-03-09 | 1993-01-01 |
| YS/T 24-1992 | 外延钉缺陷的检验方法 | 已废止 | 1992-03-09 | 1993-01-01 |
| YS/T 26-1992 | 硅片边缘轮郭检验方法 | 已废止 | 1992-03-09 | 1993-01-01 |
| YS/T 28-1992 | 硅片包装 | 已废止 | 1992-03-09 | 1993-01-01 |
| YS/T 43-1992 | 高纯砷 | 已废止 | 1992-03-19 | 1993-03-01 |
| SJ/T 10482-1994 | 半导体中深能级的瞬态电容测试方法 | 现行 | 1994-04-11 | 1994-10-01 |
| SJ/T 10625-1995 | 锗单晶中间隙氧含量的红外吸收测量方法 | 现行 | 1995-04-22 | 1995-10-01 |
| YS/T 223-1996 | 硒 | 已废止 | 1996-02-02 | 1996-12-01 |
| YS/T 222-1996 | 碲锭 | 已废止 | 1996-02-02 | 1996-12-01 |
| GB/T 16595-1996 | 晶片通用网格规范 | 已废止 | 1996-11-04 | 1997-04-01 |
| GB/T 12962-1996 | 硅单晶 | 已废止 | 1996-11-04 | 1997-04-01 |
| GB/T 16596-1996 | 确定晶片坐标系规范 | 已废止 | 1996-11-04 | 1997-04-01 |
| GB/T 12963-1996 | 硅多晶 | 已废止 | 1996-11-04 | 1997-04-01 |
| GB/T 12965-1996 | 硅单晶切割片和研磨片 | 已废止 | 1996-11-04 | 1997-04-01 |
| YS/T 99-1997 | 三氧化二砷 | 已废止 | 1997-05-15 | 1998-05-01 |
| GB/T 1558-1997 | 硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法 | 已废止 | 1997-12-22 | 1998-08-01 |
| GB/T 8750-1997 | 半导体器件键合金丝 | 已废止 | 1997-12-22 | 1998-08-01 |
| GB/T 17170-1997 | 非掺杂半绝缘砷化镓单晶深能级EL2浓度红外吸收测试方法 | 已废止 | 1997-12-22 | 1998-08-01 |