H17 半金属及半导体材料分析方法

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标准号	标准名称	状态	发布日期	实施日期
GB/T 38976-2020	硅材料中氧含量的测试惰性气体熔融红外法	现行	2020-07-21	2021-06-01
GB/T 39145-2020	硅片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法	现行	2020-10-11	2021-09-01
GB/T 39144-2020	氮化镓材料中镁含量的测定二次离子质谱法	现行	2020-10-11	2021-09-01
YS/T 1392-2020	氯硅烷组分含量的测定气相色谱法	现行	2020-12-09	2021-04-01
YS/T 1434-2021	六氯乙硅烷组分含量的测定气相色谱法	现行	2021-12-02	2022-04-01
YS/T 1509.2-2021	硅碳复合负极材料化学分析方法第2部分：碳含量的测定高频加热红外吸收法	现行	2021-12-02	2022-04-01
YS/T 1509.3-2021	硅碳复合负极材料化学分析方法第3部分：铁、镍、锆、钙、铅、铝、铪含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法	现行	2021-12-02	2022-04-01
YS/T 1509.1-2021	硅碳复合负极材料化学分析方法第1部分：硅含量的测定重量法和分光光度法	现行	2021-12-02	2022-04-01
YS/T 987-2021	氯硅烷中碳含量的测定气相色谱质谱联用	现行	2021-12-02	2022-04-01
GB/T 41153-2021	碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定二次离子质谱法	现行	2021-12-31	2022-07-01
GB/T 24581-2022	硅单晶中III、V族杂质含量的测定低温傅立叶变换红外光谱法	现行	2022-03-09	2022-10-01
GB/T 37211.3-2022	金属锗化学分析方法第3部分：痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法	现行	2022-12-30	2023-04-01
GB/T 42263-2022	硅单晶中氮含量的测定二次离子质谱法	现行	2022-12-30	2023-04-01
GB/T 42274-2022	氮化铝材料中痕量元素（镁、镓）含量及分布的测定二次离子质谱法	现行	2022-12-30	2023-04-01
GB/T 42276-2022	氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的测定离子色谱法	现行	2022-12-30	2023-04-01
YS/T 1601-2023	六氯乙硅烷中杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法	现行	2023-04-21	2023-11-01
YS/T 38.3-2023	高纯镓化学分析方法第3部分：痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法	现行	2023-04-21	2023-11-01
YS/T 1600-2023	碳化硅单晶中痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法	现行	2023-04-21	2023-11-01
GB/T 24582-2023	多晶硅表面金属杂质含量测定酸浸取-电感耦合等离子体质谱法	现行	2023-08-06	2024-03-01
GB/T 35306-2023	硅单晶中碳、氧含量的测定低温傅立叶变换红外光谱法	现行	2023-08-06	2024-03-01