29.045 半导体材料

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标准号	标准名称	状态	发布日期	实施日期
CB/Z 166-1979	压电陶瓷材科体积电阻率ρV测量方法	现行	1979-10-15	1979-10-15
SJ/T 10482-1994	半导体中深能级的瞬态电容测试方法	现行	1994-04-11	1994-10-01
SJ/T 10625-1995	锗单晶中间隙氧含量的红外吸收测量方法	现行	1995-04-22	1995-10-01
GB/T 11093-2007	液封直拉法砷化镓单晶及切割片	现行	2007-09-11	2008-02-01
YS/T 651-2007	二氧化硒	现行	2007-11-14	2008-05-01
GB/T 14144-2009	硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法	现行	2009-10-30	2010-06-01
GB/T 6621-2009	硅片表面平整度测试方法	现行	2009-10-30	2010-06-01
GB/T 24580-2009	重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法	现行	2009-10-30	2010-06-01
GB/T 24577-2009	热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物	现行	2009-10-30	2010-06-01
GB/T 6618-2009	硅片厚度和总厚度变化测试方法	现行	2009-10-30	2010-06-01
GB/T 4061-2009	硅多晶断面夹层化学腐蚀检验方法	现行	2009-10-30	2010-06-01
GB/T 13387-2009	硅及其它电子材料晶片参考面长度测量方法	现行	2009-10-30	2010-06-01
GB/T 24575-2009	硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法	现行	2009-10-30	2010-06-01
GB/T 11072-2009	锑化铟多晶、单晶及切割片	现行	2009-10-30	2010-06-01
GB/T 24579-2009	酸浸取原子吸收光谱法测定多晶硅表面金属污染物	现行	2009-10-30	2010-06-01
GB/T 1554-2009	硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法	现行	2009-10-30	2010-06-01
GB/T 6624-2009	硅抛光片表面质量目测检验方法	现行	2009-10-30	2010-06-01
GB/T 14141-2009	硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定直排四探针法	现行	2009-10-30	2010-06-01
GB/T 13388-2009	硅片参考面结晶学取向X射线测试方法	现行	2009-10-30	2010-06-01
GB/T 6617-2009	硅片电阻率测定扩展电阻探针法	现行	2009-10-30	2010-06-01