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L55 微电路综合
L56 半导体集成电路
L57 膜集成电路
L58 混合集成电路
L59 微型组件
L55 微电路综合
L55 微电路综合
收录
176
项
全部状态
现行
即将实施
废止
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标准号
标准名称
状态
发布日期
↕
实施日期
↕
SJ 20875-2003
扁平封装集成电路插座通用规范
现行
2003-12-15
2004-03-01
SJ 50597/60-2004
半导体集成电路JW117/JW150/JW138型三端可调正输出电压调整器详细规范
现行
2004-08-02
2004-12-01
GB/T 26112-2010
微机电系统(MEMS)技术微机械量评定总则
现行
2011-01-10
2011-10-01
GB/T 26113-2010
微机电系统(MEMS)技术微几何量评定总则
现行
2011-01-10
2011-10-01
GB/T 28277-2012
硅基MEMS制造技术 微键合区剪切和拉压强度检测方法
现行
2012-05-11
2012-12-01
GB/T 28276-2012
硅基MEMS制造技术 体硅溶片工艺规范
现行
2012-05-11
2012-12-01
GB/T 28275-2012
硅基MEMS制造技术 氢氧化钾腐蚀工艺规范
现行
2012-05-11
2012-12-01
GB/T 28274-2012
硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则
现行
2012-05-11
2012-12-01
GB/T 20296-2012
集成电路记忆法与符号
现行
2012-12-31
2013-07-01
GB 51122-2015
集成电路封装测试厂设计规范
现行
2015-08-27
2016-05-01
GB/T 32815-2016
硅基MEMS制造技术 体硅压阻加工工艺规范
现行
2016-08-29
2017-03-01
GB/T 32817-2016
半导体器件 微机电器件 MEMS总规范
现行
2016-08-29
2017-03-01
GB/T 32814-2016
硅基MEMS制造技术 基于SOI硅片的MEMS工艺规范
现行
2016-08-29
2017-03-01
GB/T 32816-2016
硅基MEMS制造技术 以深刻蚀与键合为核心的工艺集成规范
现行
2016-08-29
2017-03-01
SJ 21169-2016
MEMS惯性器件干法刻蚀工艺技术要求
现行
2016-12-14
2017-03-01
SJ 21164-2016
MEMS惯性器件圆片减薄抛光工艺技术要求
现行
2016-12-14
2017-03-01
SJ 21166-2016
MEMS惯性器件划片工艺技术要求
现行
2016-12-14
2017-03-01
GB/T 33922-2017
MEMS压阻式压力敏感芯片性能的圆片级试验方法
现行
2017-07-12
2018-02-01
GB/T 33929-2017
MEMS高g值加速度传感器性能试验方法
现行
2017-07-12
2018-02-01
GB/T 34899-2017
微机电系统(MEMS)技术 基于拉曼光谱法的微结构表面应力测试方法
现行
2017-11-01
2018-05-01
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